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  • 产品名称:电子级氟素界面活性剂
  • 简介:
  • 阴离子型-Novec™4200,4300


    简介:

    Novec™4200

    是阴离子界面活性剂,由25%氟烷基磺酸亚酰铵盐+75%水组成;适合用于缓冲型氢氟酸及稀释型氢氟酸、起泡少,金属含量超低(<500ppb)。

    另外,也可以加入去离子水做冲洗润湿使用。

    Novec™4300

    是阴离子界面活性剂,由20%氟烷基磺酸胺+80%冰醋酸所组成,在低PH值的溶液中还能维持低表面张力。适合用于磷酸、醋酸、硝酸等混合酸【PAN】的金属蚀刻液,也可作为铬酸雾滴抑制剂,金属离子含量<30 ppm。



详细说明

适用:

建议添加量为0.02%-0.2%,可将溶液系统的表面张力降至18-35 dyne/cm为精密清洗用界面活性剂,适合半导体及相关制程

Novec™氟素界面活性剂?

为低金属含量的界面活性剂,用来添加于各种制程的液体及涂料中,可降低表面张力,改善湿润,平整及控制流量的特性。

例如:在半导体产业中,可改善金属蚀刻液及其他水相的微电子制程中化学物质(如低pH溶液)的穿透性。也可作为光阻、光阻去除剂、芯片边缘水珠去除液、抗反射涂料及旋转式涂布玻璃膜中的润湿剂。

Novec电子界面活性剂配方采用永续化学技术,可溶性极佳,容易混合,金属含量低,可重覆连续过滤。

产品特色与优点

1.只需低浓度就有很好的效果

2.对蚀刻率的影响很小,几乎没有影响

3.泡沫少

4.可过滤

5.低表面吸附量

物性比较

Novec™ 4200Novec™ 4300
外观澄清透明液体浅黃色液体
比重1.14g/cc1.1g/cc
粘度11.2cp
组成氟烷基磺酸亚酰胺铵盐25%
水75%
氟烷基磺酸胺20%
冰醋酸80%
金属含量<500ppb<30ppm